坩埚工艺之喷涂 坩埚喷涂是利用不同于其它喷涂技巧跟方法，坩埚喷涂是涂装坩埚通过加热使其液态混淆物（氮化硅）敏捷附着在坩埚名义。涂装坩埚的方法可分为加热喷涂与滚涂两种方法涂覆工艺，滚涂涂装其技巧工艺简单，涂装涂层不均，时光长，氮化硅利用量大，本钱高，所以公司现利用的是较进步工艺热喷涂技巧。 就目前的石墨坩埚而言，加热喷涂技巧是将配制好的硅液涂料用沾染的紧缩空气进行喷涂，喷枪压力为20psi~40psi，喷涂间隔为25~30厘米，定位下落坩埚宽度为15~20厘米，在喷涂进程中个别一次喷涂厚度把持在小于0.01mm内，否则在加热进程中易呈现龟裂．起泡．针孔等，坩埚喷涂温度在40℃~65℃把持内．喷涂实现后再进行热处理，热处理的目标是进步涂层结晶度，避免内应力引起的涂层脱落，从而进步涂层的韧性跟附着力。
随着科技的一直发展，石墨坩埚制造行业自身才干的一直进步，很多新的技巧，好的技巧也随之产生，盼望我国的坩埚出产业可能有新的技巧冲破吧！
